Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Garantie 2 ans

Points Forts du produit

Système PVD haute performance à faible coût
Conception à deux chambres pour le dépôt de deux matériaux différents en un seul processus
Système de rétroaction en boucle fermée pour un contrôle précis du processus de dépôt
Étage de substrat chauffé pour le dépôt de films à des températures élevées
Système de verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement rapides des substrats

1 225,20 € TTC 1 021,00 € HT

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Description

Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Dans la boîte

1 x Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Le Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO est un système de dépôt physique en phase vapeur (PVD) à haute performance et à faible coût conçu pour une variété d’applications, y compris le dépôt de couches minces pour les dispositifs optiques, électroniques et semi-conducteurs.

Fiche technique

Taille du substrat : Jusqu’à 200 mm

Vitesse de dépôt : Jusqu’à 10 nm/min

Épaisseur du film : Jusqu’à 10 µm

Matériaux de dépôt : Une grande variété de matériaux, y compris les métaux, les semi-conducteurs et les oxydes